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北京石久高研金属材料有限公司
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供应石久Cu铜靶,金属靶材,溅射靶材

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详细说明

    铜靶

化学符号:Cu

原 子 量:63.546

外观纯铜:紫红色金属

熔 点:1083.4℃

沸 点:2567℃

密 度:8.92g/cm3

蒸 发 源(丝、片):钨、钽、钼、铌

坩 埚:Mo、C、Al2O3

在10-4Torr蒸发温度:1017℃

薄膜的机械和化学性质:膜层附着不好,利用中间层Cr可增加附着力;

应 用:保护膜,反射膜,增透膜

靶材形状:板材,圆片,矩形,方形,圆环,圆管,台阶圆片,台阶矩形,其他规格根据客户要求定做. 提供规格的铜靶托、钼靶托、铝靶托、钛靶托;提供金属靶材,合金靶材,陶瓷靶材的背面金属化服务;提供金属靶材,合金靶材,陶瓷靶材与靶托的绑定服务。

本公司长期供应4N高纯铜靶,5N高纯铜靶,6N高纯铜靶高纯铜,高纯铜靶材,高纯铜丝,高纯铜粒,高纯铜柱,高纯铜板,铜锭,铜带,铜箔,铜粉,铜型材,纯度4N-6N,平面靶材,磁控溅射旋转靶材。本公司拥有国内外先进的技术设备,和高端的技术人员,通过真空熔炼,熔融铸造,粉末冶金,热压,冷(热)等静压等技术,专业研发制造高纯度靶材,我们的靶材纯度高,致密度高,放气量小,晶粒细,成膜质量好,价格优惠,欢迎新老客户至电咨询!

石久高研金属材料有限公司真诚期待与您的合作!

 
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